问题：反应磁控溅射技术沉积氮化锆薄膜，靶材是两英寸的，溅射气体为氩气，反应气体为N2，功率300W，射频电源，沉积了两个小时，完后取出靶一看出现了标题中所述的现象，是靶中毒还是其他什么原因，但为什么只有半边出现?
原因分析1：可能与射频电源的引入有关
原因分析2：这么小的靶，两英寸?冷却均匀么
原因分析3：这么小的靶还加300W的功率，冷却跟得上吗?怀疑是冷却不好，造成半边发乌!
原因分析4：冷却不够。温度太高了吧
原因分析5：可能跟功率过高有关，我直径60的靶功率只敢加到100W左右
原因分析6：两小时中电源稳定吗?可能是能量太高,也可能是靶的一边碰到接地的部件了
原因分析7：疑似气密性有问题，个人认为
解决意见1：建议1)检查气体均匀性;2)是否一侧有漏气?
解决意见2：建议去做个XPS分析，或是再重新做一遍实验看看。
总结：综合上述分析的原因，导致靶材中毒发乌的主要原因是温度过高、电源不稳定、气体均匀性及气密性。检查这些可能的主要原因，一步一步排除解决。