磁控溅射技艺由于其分明的优点成爲工业镀膜首要技艺之一，改善靶的规划进一步提高靶材应用率及镀膜平均性，下降镀膜本钱也是如今镀膜技艺亟须处置的关键成绩之一，多年来一向被靶材研讨人员注重。与德国、日本等世界靶材强国比拟，我国磁控溅射靶材研讨绝对落后，可是近年来，跟着全球光电工业的展开，国际大型靶材公司加大投入，获得了很大的效果。

从磁控溅射镀膜技艺降生以来，人们首要注重磁控溅射的成绩是：靶材的应用率、堆积功率、薄膜平均性、镀膜进程中的波动性以及称心各种芜杂的镀膜要求等成绩。关于大少数磁控镀膜设备特别是立体磁控溅射靶，由于正交电磁场对溅射离子的作用联络，将其约束在闭合磁力线中，使得溅射靶材在溅射中发生不平均冲蚀景象，一旦靶材刻蚀穿，靶材即作废，进而构成靶材的应用率一向较低，普通是30%以下。靶材是磁控溅射进程中的根本耗材，不只运用量大，并且靶材应用率的凹凸对工艺进程及出产周期起着至关重要的作用，虽然如今靶材可以回收再应用，可是其仍然对企业本钱操控上以及提高企业产品竞争力有很大的影响。因此想方设法提高靶材应用率是肯定的。对此国际外许多厂商也做出了许多改善的措施。

事先，事先提高磁控阴极靶材应用率的原理首要依据改动靶面闭合磁场位形，方法上大致分爲静态方法和静态方法。静态法与静态法均有其优点及缺陷，静态法对磁钢的位形有着较高的要求并且磁钢位形的改动而构成的磁场的改动对靶材应用率的影响需求很多的停止模拟及实验，可是一旦成功后即可获得分明的作用;静态法就是静态的变换靶面磁场的分布，进而改动靶面等离子体刻蚀区域，拓展靶材的刻蚀区域，提高靶材的应用率以及镀膜的平均性，可是这种方法极大的添加了磁控阴极的构造以及制造组装的芜杂性。

立体转管状：多年来，镀膜设备首要运用立体阴极，要求立体靶材与之配套。虽然人们经过规划挪动磁场等办法来提高立体靶材的应用率，但如今，立体靶材的应用率较高也只能抵达40%左右。爲了进一步提高靶材应用率，人们规划了运用功率更高的旋转阴极，用管状的靶材停止溅射镀膜。溅射设备的改善要求靶材从立体外形改动爲管状，管状旋转靶材的应用率可以高达80%以上。

近年来，国际大型靶材供货商加大了对磁控溅射靶材的研发力度，广州、深圳等地的靶材供货商，已可以量产出高质量、高应用率的磁控靶材，置信在不久的未来，这些优质的靶材供货商将会对国外靶材强国建议一波强而无力的冲击。