光学镀膜材料
二氧化铪 HfO2
发布时间:2022-11-09 09:42:30 | 浏览次数:444 次

二氧化铪  HfO2


外观:白色固体

密度:9.68g/cm³

熔点:2758℃

透光范围:220-12000nm

折射率:2.15

蒸发条件:用电子枪,氧分压~1-2×10-2Pa

蒸发温度:2600-2800℃

应用领域:UV增透膜、干涉膜

规格:1-5mm

纯度:99.99%


 

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