光学镀膜材料
氮化硅 Si3N4
发布时间:2022-11-17 15:49:08 | 浏览次数:708 次

氮化硅

外观:灰色颗粒

密度:3.4g/cm3     

硬度(摩式):9-9.5                              

熔点:1900℃

透光范围:400-7000nm

折射率500nm)2.8

蒸发条件:电子枪

蒸发温度:2000℃

纯度:99.99%

应用领域:红外膜、反射膜

规格1-3mm2-4mm(可根据客户要求定制)


相关内容:  

上一篇:氟化钡BaF2

         

下一篇:氟化镁片状MgF

返回